常见的处理流程：含氰电镀污水→破氰池1→破氰池2→斜沉池→过滤池→PH调节池→排放。一般简单的氰化物一段破氰池投药量氰离子比氯离子一般是1:2.73，复合氰化物氰离子比氯离子是1:3.42。二段破氰池投药量，简单氰化物氰离子比氯离子是1:4.09，复合氰化物氰离子比氯离子也是1:4.09。处理后的含氰电镀污水可混入电镀综合废水一并处理。