三川宏电镀过滤泵厂家——川田环保科技，年前为您分享了一些关于表面处理热加工的一些方法，化学处理法以及电镀等电化学处理法的一些表面处理工艺。今天，我们再来看看真空镀的一些相关内容。

PVD——物理气相沉积，是真空表面处理方法中的一种。在真空条件下，将金属气化为原子或者分子，或者使得金属离子化，直接沉积到工件表面，从而形成覆镀层。此类方法称为物理气相沉积，其沉积粒子源于非化学因素，例如蒸发溅射镀、离子镀等。

离子注入，对于三川宏小编来讲，也是一个比较新的概念。它是在高压状态下，将不同离子注入工件表面，使其表面改性，如：注硼工艺。

CVD——化学气相沉积，有别于物理气相沉积，在低压或者高压状态下，气态物质在工件表面因为化学反应生成固态沉积覆镀层的工艺，也叫化学气相镀。如：气相沉积氧化硅、氮化硅等。

以上就是三川宏电镀过滤泵厂家——川田环保科技小编MIKAWA，为您分享的一些关于真空镀的一些表面处理工艺方面的相关内容和知识。下期，我们再来看看其他的一些表面处理方法。